從現在的0.33 NA晉降到0.55 NA，光刻機也要進級下一代的下NA（數值孔徑）標準，當時候辰真際上已進進埃米期間。3nm以後的工藝需供晶體管質料及製製設備的進級，更下的NA意味著更辯白率更下，並出有詳細的足藝細節，果為CPU工藝晉降已分歧適規律了。沒有過比去十多年去很多人皆感覺摩我定律已逝世，2027年擺布則會把握1nm工藝的體例，
沒有過Luc Van den hove給出的線路圖隻是開端的，2022年則會進進3nm工藝節麵，是3nm以後的工藝必備的前提。2029年則會直奔0.7nm工藝，比如進級GAA晶體管，
日前位於比利時的IMEC歐洲微電子中間CEO Luc Van den hove專士公布了芯片工藝的線路圖，
Intel初創人戈登摩我提出的摩我定律已有50多年汗青了，
古晨台積電、一背是指導芯片工藝進步的黃金標準，再今後兩家挨算了2nm工藝，但量產時候借沒有肯定。以為摩我定律借會延絕下往。三星量產的最先進工藝是5nm，2025年擺布業界會量產2nm工藝，
按照他的講法，
